類型及規格
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產品概述：在蘇打或者石英玻璃為透明基板上鍍一層鉻，經過激光光刻曝光技術，最終蝕刻殘留鉻部分得到所需的微電路圖案
光掩膜版具有精度高、抗劃傷能力強和使用壽命長等優點而被廣泛應用于半導體行業中，普佳從設計到生產再到售后有完整的服務體系，能為客戶提供多種尺寸、不同精度級別的蘇打/石英玻璃掩膜版，最小圖形可做到0.5um，制作精度為±0.05um
